Ротационная вакуумная плазменная установка | TBTRVP-7L
TBT
р.
р.
Запросить стоимость
TBTRVP-7L — компактная ротационная вакуумная плазменная установка, предназначенная для очистки, активации, модификации поверхности и функционализации различных материалов с использованием низкотемпературной плазмы. Установка оснащена вращающимся кварцевым реактором, обеспечивающим равномерную обработку порошков и гранулированных материалов. Автоматическая система управления позволяет точно регулировать мощность плазмы, вакуум, расход газа и продолжительность обработки. Благодаря поддержке различных технологических газов (O₂, N₂, Ar, CO₂ и др.) установка применяется в научных исследованиях, материаловедении, микроэлектронике, химической промышленности, производстве аккумуляторов, медицинских материалов и композиционных покрытий.
Основные характеристики
Комплект поставки
Преимущества
Соответствие стандартам
Основные характеристики
Объем вакуумной камеры: 7 л
Материал камеры: нержавеющая сталь и кварц
Размер камеры: 160 × 190 × 250 мм
Температура камеры: менее 45°C после 3 минут работы на полной мощности